恒歌納米級DF系列擴散器專用過濾器專為半導體制程中真空腔體快速放氣應用進行設計。它結合了擴散器的氣體流動特性和高效過濾器的顆粒攔截特性，能夠有效減少工藝腔體排氣時的湍流，確保氣體的平穩流動。這種過濾器的過濾精度高達0.003μm，能夠有效防止氣流吹起顆粒或硅片，從而保障工藝室環境的穩定。

產品特點

●  高效過濾：采用316L不銹鋼粉末燒結介質，過濾精度可達0.003μm，有效攔截微小顆粒。

●  全316L不銹鋼結構：堅固耐用，耐高溫、耐高壓、耐腐蝕，適用于多種工藝氣體。

●  減少湍流：獨特的設計有效減少工藝腔體排氣時的湍流，防止氣流吹起顆粒或硅片。

●  潔凈室制造：在潔凈室環境中制造、測試和包裝，確保產品的高潔凈度。

●  高可靠性：通過100%完整性測試和氨氣泄露檢測，確保產品的高質量和可靠性。

●  定制化設計：可根據安裝空間進行靈活設計，適配各種復雜的安裝環境

應用領域

DF系列擴散器專用過濾器廣泛應用于半導體制造中的各種工藝環節，如光刻、蝕刻、離子注入等。它能夠有效去除氣體中的雜質，確保氣體的高純度，從而提高芯片的良品率和生產效率。此外，它還適用于其他需要高純度氣體的工業領域，如電子制造、化工等。

在半導體制程中，DF 系列擴散器應用氣體過濾器主要有以下原因：

●  防止顆粒污染：半導體制造對環境潔凈度要求極高，哪怕微小顆粒也可能導致芯片短路、斷路或其他性能缺陷。氣體過濾器能攔截 0.003um 及以上的顆粒，確保進入真空腔體的氣體純凈，防止顆粒在工藝過程中附著在硅片或其他關鍵部件上，提高產品合格率。

●  避免氣體雜質影響工藝：半導體制程中的光刻、蝕刻等工藝對氣體純度要求嚴格。過濾器可去除氣體中的雜質，如水分、油分、金屬離子等，避免這些雜質與工藝氣體發生化學反應，或在高溫、高壓等條件下對硅片表面造成腐蝕、污染，保證工藝的一致性和穩定性。

●  保護設備：潔凈的氣體可減少對擴散器及其他相關設備內部組件的磨損和腐蝕，延長設備使用壽命，降低維護成本。如果氣體中的顆粒或雜質進入設備內部，可能會堵塞氣體通道、磨損密封件，影響設備的正常運行。

●  滿足工藝精度要求：隨著半導體器件尺寸不斷縮小，工藝精度要求越來越高。使用氣體過濾器能提供穩定、純凈的氣體環境，滿足高精度工藝要求，確保半導體產品的性能和質量達到標準。