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半導體氣體過濾器
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真空系統氣體過濾器_半導體氣體過濾器

  • KF系列真空系統氣體過濾器易于安裝于真空系統,特別適用于實現清潔、快速且低湍流的回填過程有效提升產品產量和設備吞吐量。在規范安裝及操作條件下,可確保產品完整性達3,000,000次循環。該過濾器廣泛應用于半導體設備接口(如CVD、PVD、Etch、Epi)及各類真空室(裝載鎖、傳輸、冷卻、工藝腔體)的通風,適合短時間內傳遞大量氣體流的場合,
  • 產品詳情

KF系列真空系統氣體過濾器易于安裝于真空系統,特別適用于實現清潔、快速且低湍流的回填過程有效提升產品產量和設備吞吐量。

在規范安裝及操作條件下,可確保產品完整性達3,000,000次循環。該過濾器廣泛應用于半導體設備接口(如CVD、PVD、Etch、Epi)及各類真空室(裝載鎖、傳輸、冷卻、工藝腔體)的通風,適合短時間內傳遞大量氣體流的場合。

產品特點

減少工藝腔體排氣時的湍流

適用于多種工藝氣體

潔凈室環境內制造、測試、包裝

100% 完整性測試通過

技術參數

濾芯材質16L不銹鋼粉末燒結殼體材質316L不銹鋼
最大進氣壓力6.89bar0-ring氟橡膠(可選)
最大工作壓差3bar工作壽命≥100,000cycles
最高操作溫度100°C with 0-ring
400'C with no 0-ring
下游潔凈度0.03particles/liter
@>0.01um rate flow


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過濾替換頁-精細版_01.jpg

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